產(chǎn)品用途：此款CVD系統適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長(cháng)、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結真空淬火退火，快速降溫等工藝實(shí)驗。

產(chǎn)品用途：此款CVD系統是專(zhuān)門(mén)為在金屬箔上生長(cháng)薄膜而設計，特別是應用在新一代能源關(guān)于柔性金屬箔電極方面的研究，通過(guò)滑動(dòng)爐實(shí)現快速加熱和冷卻。

CVD系統系周期作業(yè)，供企業(yè)實(shí)驗室，大專(zhuān)院校，科研院所等單位選用，設備為用戶(hù)提供具體真空、可控氣氛及高溫的實(shí)驗環(huán)境，應用在半導體，納米技術(shù)，碳纖維等新材料新工藝領(lǐng)域。